释
直流溅射
zhí liú jiàn shè · ㄓˊ ㄌㄧㄡˊ ㄐㄧㄢˋ ㄕㄜˋ
修撰于 2026-06-30 14:54:26
音义
| 拼音 | zhí liú jiàn shè |
|---|---|
| 字母 | zhi liu jian she |
| 首字母 | zljs |
| 注音 | ㄓˊ ㄌㄧㄡˊ ㄐㄧㄢˋ ㄕㄜˋ |
| 注音符号 | ㄓ ㄌㄧㄡ ㄐㄧㄢ ㄕㄜ |
广训
直流溅射是指利用直流辉光放电产生的离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术。直流溅射装置主要由真空室、真空系统和直流溅射电源构成。
zhí liú jiàn shè · ㄓˊ ㄌㄧㄡˊ ㄐㄧㄢˋ ㄕㄜˋ
修撰于 2026-06-30 14:54:26
| 拼音 | zhí liú jiàn shè |
|---|---|
| 字母 | zhi liu jian she |
| 首字母 | zljs |
| 注音 | ㄓˊ ㄌㄧㄡˊ ㄐㄧㄢˋ ㄕㄜˋ |
| 注音符号 | ㄓ ㄌㄧㄡ ㄐㄧㄢ ㄕㄜ |
直流溅射是指利用直流辉光放电产生的离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术。直流溅射装置主要由真空室、真空系统和直流溅射电源构成。