释
掩模
yǎn mó · ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ
修撰于 2026-06-30 09:11:41
音义
| 拼音 | yǎn mó |
|---|---|
| 字母 | yan mo |
| 首字母 | ym |
| 注音 | ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ |
| 注音符号 | ㄧㄢ ㄇㄛ |
广训
掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模（reticle）。