释
辐照损伤
fú zhào sǔn shāng · ㄈㄨˊ ㄓㄠˋ ㄙㄨㄣˇ ㄕㄤ
修撰于 2026-06-29 20:20:38
音义
| 拼音 | fú zhào sǔn shāng |
|---|---|
| 字母 | fu zhao sun shang |
| 首字母 | fzss |
| 注音 | ㄈㄨˊ ㄓㄠˋ ㄙㄨㄣˇ ㄕㄤ |
| 注音符号 | ㄈㄨ ㄓㄠ ㄙㄨㄣ ㄕㄤ |
广训
辐照对于材料和元器件（包括半导体器件和IC）产生损伤的基本机理是电离损伤和位移损伤。电离损伤主要是在半导体和绝缘体中产生电子-空穴对，需要的能量较低；而位移损伤主要是在半导体中产生晶格空位（即原子离开晶格位置后所留下的空位），需要的能量要高得多。半导体中的这些损伤也就是造成器件和IC的辐照效应的根本原因。