光掩膜

guāng yǎn mó · ㄍㄨㄤ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ

修撰于 2026-07-01 16:08:58

拼音guāng yǎn mó
字母guang yan mo
首字母gym
注音ㄍㄨㄤ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ
注音符号ㄍㄨㄤ ㄧㄢ ㄇㄛ

广

在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。