释
磁控溅射
cí kòng jiàn shè · ㄘˊ ㄎㄨㄥˋ ㄐㄧㄢˋ ㄕㄜˋ
修撰于 2026-06-30 15:12:16
音义
| 拼音 | cí kòng jiàn shè |
|---|---|
| 字母 | ci kong jian she |
| 首字母 | ckjs |
| 注音 | ㄘˊ ㄎㄨㄥˋ ㄐㄧㄢˋ ㄕㄜˋ |
| 注音符号 | ㄘ ㄎㄨㄥ ㄐㄧㄢ ㄕㄜ |
广训
磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。