释
光学掩模版
guāng xué yǎn mó bǎn · ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝˊ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ ㄅㄢˇ
修撰于 2026-07-01 05:19:51
音义
| 拼音 | guāng xué yǎn mó bǎn |
|---|---|
| 字母 | guang xue yan mo ban |
| 首字母 | gxymb |
| 注音 | ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝˊ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ ㄅㄢˇ |
| 注音符号 | ㄍㄨㄤ ㄒㄩㄝ ㄧㄢ ㄇㄛ ㄅㄢ |
广训
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。