释
印微
yìn wēi · ㄧㄣˋ ㄨㄟ
修撰于 2026-06-30 18:25:08
音义
| 拼音 | yìn wēi |
|---|---|
| 字母 | yin wei |
| 首字母 | yw |
| 注音 | ㄧㄣˋ ㄨㄟ |
| 注音符号 | ㄧㄣ ㄨㄟ |
广训
新的SCIL（基板完整压印微影）技术是用于亚50奈米图形制造的技术，它运用于小尺寸高解析度硬质印模和解析度低于200nm的大面积软质印模之间的优势互补。
yìn wēi · ㄧㄣˋ ㄨㄟ
修撰于 2026-06-30 18:25:08
| 拼音 | yìn wēi |
|---|---|
| 字母 | yin wei |
| 首字母 | yw |
| 注音 | ㄧㄣˋ ㄨㄟ |
| 注音符号 | ㄧㄣ ㄨㄟ |
新的SCIL（基板完整压印微影）技术是用于亚50奈米图形制造的技术，它运用于小尺寸高解析度硬质印模和解析度低于200nm的大面积软质印模之间的优势互补。